研磨目的ごとのシステム構成例

システム構成に関しまして

サンプルの材質によって適した研磨盤・研磨剤は様々です。
弊社では長年行ってきた研磨試験から、材料に最適な研磨条件データを蓄積しております。
実際にお客様の加工したいサンプルを弊社ラボにて研磨し、条件を導き出すことが可能です。
以下に示す研磨工程の条件は一例です。
技術に関して不明な点などございましたら、お気軽にご連絡ください。

透過電子顕微鏡用試料作成システム

サンプルの粗研磨（面出し）から液中研磨によるCMP工程を行い、透過電子顕微鏡での観察用試料を作成できる汎用性の高いシステム構成です。

装置	精密研磨装置 MA-150
試料保持ユニット	コロ式試料保持ユニット
試料ホルダー	TEMホルダー
研磨盤・研磨剤	MM 490盤 MF 銅盤 HP TX盤 MF 錫盤アルミ盤（ツバ付き）ポリシングクロス 2TS4	ダイヤモンドスラリー 9µm ダイヤモンドスラリー 3µm ダイヤモンドスラリー 1µm ダイヤモンドスラリー 0.5µm コロイダルシリカ研磨剤
周辺機器	自動噴霧装置 MS-2 自動噴霧装置 MS-2用コンプレッサースプレー用ノズル 5A スターラー回転子

埋込試料研磨システム

加工によるサンプルの変質を抑えるため、または小型材料・異形材料をより簡易に取り扱うために常温硬化樹脂を使用し、サンプルを樹脂包埋する場合のシステム構成例です。（品質管理など）

装置	精密研磨装置 MA-200e
試料保持ユニット	パンタ式試料保持ユニット
試料ホルダー	1ヶ掛け埋込試料ホルダー
研磨盤・研磨剤	ダイヤモンド焼付けディスク #200 NL ブルー盤 MF 銅盤 HP TX盤	水ダイヤモンドスラリー 9µm ダイヤモンドスラリー 3µm ダイヤモンドスラリー 1µm
周辺機器	テクノビット 4004 テクノマット自動噴霧装置 MS-2 自動噴霧装置 MS-2用コンプレッサースプレー用ノズル 10A スターラー回転子

ウェハー研磨システム

インゴットからスライスしたウェハー材料の鏡面を得るためのシステム例です。ウェハーの加工表面をナノメートルレベルまで平滑化します。

装置	精密研磨装置 MA-300e
試料保持ユニット	コロ式試料保持ユニット
試料ホルダー	真空チャックホルダー（3in.型）
研磨盤・研磨剤	NL ブルー盤 MF 銅盤アルミ盤ポリシングクロス 2TS4 アルミ盤（ツバ付き）ポリシングクロス 4FV1	ダイヤモンドスラリー 9µm ダイヤモンドスラリー 3µm ダイヤモンドスラリー 1µm 　コロイダルシリカ研磨剤
周辺機器	自動噴霧装置 MS-2 自動噴霧装置 MS-2用コンプレッサースプレー用ノズル 15A スターラー回転子

上記のシステム構成製品以外にも多種多様の研磨盤・研磨剤をご用意しています。
デモ試験やサンプル加工の条件出しも承っておりますのでお気軽にご連絡ください。