CMPクロス
新規に取り扱いを始めました研磨用品「CMPクロス」のご紹介およびページ開設のお知らせをさせていただきます。
新設ページ「CMPクロス」CMPクロスのご紹介
CMPクロスは特殊ポリエステル繊維から成る不織布にポリウレタンを結合した軟質クロスです。
以前までご紹介していたCMP用研磨クロス（サーフィン XXX-5など）の代替え品としてご使用頂けますので、ご興味がございましたらお気軽にお問い合わせください。
以前よりCMP用研磨クロスをご使用されているお客様の新規条件出し、デモ試験なども承ります。
特長
●軟質の不織布クロスで研磨加工における最終工程時の使用に最適です。
●優れた面精度が得られるとともに、エッジの鏡面仕上げにも適しています。
【用途】
・デバイスウェーハの層間絶縁膜のCMP研磨
・メタル配線のCMP研磨
・SiC、GaN、Ga2O3等の化合物半導体のCMP研磨
●断面形状
仕様
| 製品名 | CMPクロス |
| 材質 | 特殊ポリエステル・ポリウレタン |
| 外径 | Φ150mm, Φ200mm, Φ300mm, Φ380mm |
| 数量 | 5枚/式 |
| 厚さ | t1.55mm |
| 密度 | 0.32g/cm3 |
| 硬度(C) | 72 |
| 圧縮率 | 4.0% |
| 圧縮弾性率 | 80％ |
| 研磨剤 | コロイダルシリカ研磨剤・ケミカルリキッド ……など |
| 粒度 | 0.015μm～0.0825μm |
| 工程 | CMP研磨 |
| 備考 | 化合物半導体の鏡面加工、酸化膜の除去等、基板の裏面基準でポリシングを行うことが可能です。研磨加工面の高平坦度、高平行度を実現可能です。ポリシングクロスの研磨工程で除去しきれない微細スクラッチを除去できます。 |
お見積り・お問い合わせは以下より担当者までご連絡ください。
