研磨盤

予備研磨用ダイヤモンド焼付けディスク(固定砥粒式)

※ダイヤモンド焼付けディスクとドレッサー

研磨用途に合わせた粒径のダイヤモンドをレジンボンドで台盤に固定しております。
サファイヤなど硬質材料の研削研磨用にビトリファイドボンド仕様も用意しています。

複数の試料をひとつのホルダーに取り付けた際に研磨面の高さを揃える予備研磨(面出し)を目的としています。
また、サファイアやセラミックスの研磨にも有効です。

材質 砥粒サイズ 研磨工程
レジノイド #80~#4000 予備研磨
ビトリファイド #80~#1800 予備研削

 

 

グラインディングディスク(固定砥粒式)

 

CAMEO DISK プラチナは、スチール、カーバイド、セラミックス、複合材のような
中硬質から硬質の材料のグラインディングに適したダイヤモンド埋め込み研磨パッドです。
SiC耐水研磨紙の代替品として、高い研削性能を発揮します。

(裏面がメタルになっておりますのでマグネット盤へ簡易に固定セットできます)

製品名 材質 砥粒サイズ 研磨工程
CAMEO DISK
プラチナ TYPE0
ダイヤ
レジンボンド
#80 粗研磨
CAMEO DISK
プラチナ TYPE1
ダイヤ
レジンボンド
#120~#180 粗研磨
CAMEO DISK
プラチナ TYPE2
ダイヤ
レジンボンド
#220~#320 粗研磨
CAMEO DISK
プラチナ TYPE3
ダイヤ
レジンボンド
#600 粗研磨
CAMEO DISK
プラチナ TYPE4
ダイヤ
レジンボンド
#1200 粗研磨

CAMEO DISK 研磨結果例

TYPE1 (10秒) TYPE2 (10秒) TYPE3 (30秒) TYPE4 (60秒)

※手研磨での金属包埋試料の研磨結果仕上がり例になります。

面出しが容易です。
次工程への移行も簡易に可能です。
TYPE3での研磨により蛍光灯の反射が確認できました。
TYPE4での研磨によって鏡面仕上がりに。
断面観察用試料が精密、かつ容易に作成可能です。

※CAMEO DISKによる研磨条痕(試料面に残る薄い線傷)は除去できません。
下記で紹介するラッピングディスク、ポリシングクロス(羽布)と研磨剤(ダイヤモンド、アルミナ等)の組み合わせによって、鏡面へと仕上げることが可能です。

 

グラインディングディスク(遊離砥粒式)

金属粉末を樹脂接着したマトリックス盤に、異なる金属粉末を円筒状に樹脂接着したものをはめ込んである複合定盤です。
マルチメタル盤は数百μmの研磨を効率よく行う場合に必要です。

製品名 材質(樹脂接着) 砥粒サイズ 研磨工程
MM490 鉄 銅 9μm 粗研磨
NL ブルー 鉄 銅 9μm~45μm 粗研磨
NL グリーン 鉄 銅 3µm~15µm 中仕上げ研磨

 

ラッピングディスク(遊離砥粒式)

  

金属粉末を樹脂接着した仕上げ定盤です。溝付き、溝無しがあります。
数十μm~数μm単位の研磨を行う場合に用います。平坦性が高くエッジダレを防ぎます。
メカノケミカル反応利用の研磨盤(TLB砥石)も用意しています。

製品名 材質(樹脂接着) 砥粒サイズ 研磨工程
MF 銅 2μm~6μm 中仕上げ研磨
HP TX 錫 アンチモン 0.25μm~3μm 仕上げ研磨
MF 錫 0.1µm~1µm 仕上げ研磨
MF プラスチック 合成樹脂 0.5µm~1µm 仕上げ研磨
HP セラミック 酸化アルミニウム 0.5µm~3µm 仕上げ研磨

 

ポリシング用アルミ盤/アルミ盤押さえリング付き

左図はポリシング用アルミ盤ツバ付き

φ203mm ポリシング用アルミ盤押さえリング付き

ポリシング用アルミ盤は、耐水研磨紙(P60~P2000)、ポリシング用クロス等の裏面がのり付きのシートを貼り付けるためのディスクになります。
テフロンコーティング仕様のアルミ盤は、シートの交換時にディスク上にのりが付着しにくく、綺麗に剥すことができるため、シート交換をより簡易に行うことができます。
φ203mm アルミ盤 (押さえリング付き)は、耐水研磨紙を上からリングで押さえつけディスク上へ固定するための用品になります。異なる番手への耐水研磨紙への交換時は、リングの脱着でシート交換が容易に行えます。
※手研磨専用装置MM-200には標準付属しております。
アルミ盤サイズ:φ150mm/ φ200mm/ φ203mm/ φ300mm/ φ381mmをご用意しております。
※押さえリングはφ203mm 限定になります。

ポリシング用アルミ盤ツバ付き

アルミ盤ツバ付きは、CMP研磨の液中研磨を行うためのディスクになります。
ポリシングクロス(4FV1、サーフィン、ICパッド等)をディスク上へ貼付け、研磨液をディスク内へ溜め、液中研磨作業が行えます。
テフロンコーティング仕様のタイプは、クロスの交換が容易に行えます。
アルミ盤サイズ:φ150mm/ φ200mm/ φ300mm/φ381mmをご用意しております。

製品名 材質 研磨工程
ポリシング用アルミ盤 アルミ(アルマイト処理) 仕上げ研磨
ポリシング用アルミ盤
(テフロンコート仕様)
アルミ
(アルマイト、テフロンコート処理)
仕上げ研磨
φ203mm アルミ盤 (押さえリング付き) アルミ (アルマイト処理) 耐水研磨
ポリシング用アルミ盤ツバ付き アルミ (アルマイト処理) CMP研磨
ポリシング用アルミ盤ツバ付き
(テフロンコート仕様)
アルミ
(アルマイト、テフロンコート処理)
CMP研磨

 

ポリシングクロス

クロスの素材にはナイロン、絹繊維、ウレタン等を用いています。
その他各種のポリシングディスクを用意しています。最終仕上げに用います。

製品名 材質 砥粒サイズ 研磨工程
2TS4 織物天然繊維(硬度:高) 0.5μm~1µm
MM140
MM140A
イエロー液
オレンジ液
レッド液
ファイナルリキッド
(各種組合せ使用)
最終仕上げ研磨
2TS5 織物天然繊維(硬度:中) 最終仕上げ研磨
4FV1 ビスコース繊維(硬度:低) 最終仕上げ研磨
2TS8 織物天然繊維(硬度:高) 最終仕上げ研磨
ウレタン ウレタン 最終仕上げ研磨
ポリウレタン ポリウレタン 最終仕上げ研磨
酸化セリウム ポリウレタン 最終仕上げ研磨

 

CMPパッド

IC-1000パッド 同心円溝 XY格子溝 パーフォレート

Si基板、酸化膜の除去等、基板の裏面基準でポリシングを行います。
平面度・平行度の良い加工を図ります。
ポリシングクロスの研磨工程で除去しきれない微細スクラッチを除去できます。

 

お見積り・お問い合わせは以下より担当者までご連絡ください。

 

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